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MEVAC真空鑲嵌機

真空鑲埋優(yōu)勢：

真空冷鑲嵌可排除樣品中含有的空氣。如果沒有空氣的存在，鑲嵌的化合物會填充試樣的空隙，消除了試樣和化合物之間的間隙。因此，邊緣保持得到加強，而且易碎樣品在研磨和拋光過程中也得到良好支撐。

產(chǎn)品介紹：

v 進口真空室；真空度高（與標樂，普銳斯同品牌）

v 高效真空泵，抽真空速度快

v 操作簡單，便于使用

v 高強度塑料真空腔體

v 設(shè)計*的可伸縮澆注裝置

v 透明的頂蓋，觀察方便

v 真空環(huán)境下操作，無雜質(zhì)

v 極限真空度1MP

v 220V電源

設(shè)備特點：

堅固的真空泵可提供足夠的真空以迅速排除任何多孔試樣中夾帶的空氣，通過簡單的“O”型圈密封，該取得權(quán)的高強塑料腔體在整個浸滲過程中保持真空。利用真空腔體內(nèi)*的大空間設(shè)計，多個試樣可在同一時間內(nèi)進行真空浸滲。設(shè)計*的澆注機械裝置使預(yù)混的鑲嵌化合物可置于腔體中，然后一次性澆入到模具中。可適用于各種環(huán)氧樹脂和聚酯澆注料的鑲嵌（冷）化合物。由于試樣封裝在真空狀態(tài)下，從而*消除了空氣進入的可能性。